Кислород в полупроводниках

Question

Подскажите пожалуйста, какое содержание кислорода допустимо в полупроводниковых материалах (кремний Si, германий Ge)

И как борются с примесью кислорода?

Answer 1

В кремнии - порядка 10 в 10 на куб см. Борются выращиванием кристаллов (слитков) в бескилородной среде.
Что интересно - НЕ ВСЕГДА с кислородом надо бороться. Например, в некоторых классах аналоговых микросхем концентрация кислорода нормируется на определённом уровне, чтобы он способствовал образованию преципитатов - это способствует геттерированию (уходу дефектов решётки вглубь кристалла) , тем самым снижаются токи утечек.