Как получить линию в 2, 5, и 10 раз меньше длины волны излучения, с помощью которого эту линию выжигают?

Question

Уточнение вопроса про изготовление чипов. УФ это длины волн 100-400 нм. До 2019 чипы изготавливались с помощью 198-126 нм волн. До 2019 освоили технологию изготовления 14 нм чипов. Допустим это маркетинг, и в реальности это 32 нм. Как можно получить разрез в 4 раза меньше длины волны?
Если не маркетинг, то почти в 10 раз меньше длины волны ширина полосы

Интерфиренция, линзирование, фокусировка и тп на длину волны не влияет

Answer 1

Вобще то уже давно применяют маски с корекцией интерференции и диффракции. То есть не изображение топологии как таковой , а её интерференционную картинку которая после прохождения лазера даёт уже близкое к топологии изображение. По нормам тех процесса не скажу. Давно не в теме.